电子芯片行业超纯水设备

项目设计说明

• 产水符合美国ASTM D5127电子及半导体行业用纯水水质TypeE-1.2，高于中国国家电子级超纯水标准GB/T 11446.1-2013标准。
• 超纯水设备结构紧凑、管理分布合理、简单。使用一台独立的一体化智能系统。
• 工艺流程：

• 

设备详细介绍

设备03

EDI系统EDI的作用就是通过除去电解质(包括弱电解质)的过程，将水的电阻率从0.05～1.0MΩ·cm提高到5～16MΩ·cm。

设备04

抛光混床无化学析出的核子级树脂，去除纯水中残余的微量带电离子及弱电解质，使水质达到18MΩ·cm以上。

设备05

终端超滤能有效地去除水中的微粒、胶体、细菌、热源和有机物力。是整套系统最后的防火墙，确保产出的超纯水不受二次污染。

设计优势

• 

  采用超纯水专用膜，抗污染能力强

• 

  超纯水系统无酸碱处理，节能环保

• 

  系统自动化程度高，产水水质稳定

• 

  新型均粒树脂包填充，有效提高脱盐率

• 

  采用洁净循环管道，确保系统内无死水

• 

  应急维修服务安排

• 

  100余人售后技术

• 

  3小时内赶往现场

• 

  1小时给予技术解答