产品中心

首页 > 产品中心 > 半导体行业超纯水设备

半导体行业超纯水设备

半导体行业超纯水设备

进水水质:市政自来水/地下水

产水水质:18.25MΩ

产水流量:100T/H

所需电源:稳定电源380V 50HZ

占地面积:根据产水量设计

公共条件:

  • 连续进水≥130T/H
  • 进水管道清洁无污染
  • 进水压力0.3-0.4MPA
  • 持续稳定电源AC380V/AC220V
  • 地面设置排水设施
  • 设备间温度需10℃-30℃

产品咨询

项目设计说明

设备详细介绍

预处理系统
原水增压泵出口至锰砂罐进水管路采用铸铁管路并做防腐防锈处理,其他管路使用UPVC材质。
  • 01

    原水箱原水箱
  • 02

    增压泵增压泵
  • 03

    锰砂过滤器锰砂过滤器
  • 04

    叠片式过滤器(盘滤)叠片式过滤器(盘滤)
  • 05

    板式换热器板式换热器
超滤系统
据原水水质、回收率及产水量等因素确定膜组件的组合方式。
软化系统
软化器采用自动阀进行控制,同时也可根据需要切换到手动。
反渗透装置
反渗透装置压力容器的数量、排列方式及运行压力由供方根据根据实际原水水质报告计算确定。
EDI系统
EDI装置的设置为两个系列,每列都能单独运行,也可同时运行。
终端供水系统
终端供水泵能够实现不降压设备切换,可选择恒压、恒流控制方式。

设计优势