莱特莱德拥有多项水处理相关自主知识产权，具备电子半导体超纯水系统的自主研发与设计能力，电子级超纯水系统水质满足ASTM D5127-13中E1.2标准，B≤3ppt，SiO₂≤0.5ppb、TOC≤1ppb，水质达标稳定13年。...

面板及半导体制造中废水成分复杂，具有含氟含磷、高有机溶剂特点，针对半导体废水水质特性，莱特莱德提供“超纯水制备-废水处理-废液资源化”的全流程解决方案。...

想要稳定产出符合半导体高端生产标准的超纯水，需依托专业成熟的水处理工艺体系，推荐采用莱特莱德两级RO+EDI+精混床核心工艺的超纯水设备，精准匹配半导体行业超高水质要求。...

莱特莱德工业超纯水设备依托反渗透+EDI+精处理混床核心工艺，可稳定产出18.2MΩ·cm超高纯度超纯水，水质完全符合电子行业各类生产场景的用水标准，能够高效赋能电子产业提质增效。...

莱特莱德超纯水设备依托成熟的多级组合净化工艺，采用预处理、双级反渗透、EDI电除盐搭配抛光混床的核心技术架构，构建分层递进的高精度水质净化体系，区别于传统单一净水设备，净化效果更全面、水质更稳定。...

管控各类影响反渗透膜性能的工况因素，是保障莱特莱德EDI超纯水设备高效、稳定运行的核心关键。...